的跑惊时时，真空室内残余气体分子中，燕气分子的平均自由程大于蒸发展与基片的距寒时，就会获得充分的便服条件。因此，把真空室抽成两其空，顶少现示气体的分子数、增大残余气体分子的平均自由程，使得蒸气分子与残余气体分子的碰撞机会减少，这是非常必要的。

　　当真空度提高时，蒸气分子从蒸发源到基片的过程中，与残余分子碰撞的概率下降。因此，真空镀铝时在6X 10-2Pa以上能形成良好的膜层。当真空度低时，会出现下述两种情况:

　　①基片表面吸附着许多残余气体分子，当蒸发材料的蒸气分子到达基片之后，在基片表面残余气体分子与蒸发材料的蒸气分子将产生化合作用，所形成的化合物影响膜的质量。

　　②蒸发材料的蒸气分子到达基片表面的过程中与残余气体分子发生碰撞的概率增加，使得蒸发材料蒸气分子消耗大量的动能，以致达不到基片表面，即使到达基片表面，其吸附性能也会大大降低。因此膜层松散无力，严重时出现粉末状的附着，一擦即脱落。在实际生产中观察到，真空室的真空度低于10--Pa时，铝膜呈灰色，其附着力降低，当真空度更低时，铝膜呈黑色，附着力很低。