相对于本线low E玻璃而音，在线LowE政确所要求的技术性较高，主要体现在以下几个方面:

　　①镀膜前驱体配方的研究

　　剂的配比。应根据Low~E玻璃的性能指标，确定有机锡化合物、有机硅化合物及各种助。

　　②干涉色的控制LowE玻璃膜层为掺杂的二氧化锡，折射率较高(1.8左右)， 因此易产生干涉条纹引起彩虹。所以应在Low-E膜层与玻璃之间加一层光学过渡层， 以便消除内反射引起的彩虹。

　　③膜厚度的控制

　　Low-E膜层太薄，达不到红外反射率、辐射率、表面电阻达不到要求;而膜层太厚时，红外反射、表面电阻、辐射率的指标很好，但可见光透过率、雾度的指标不好，因此应合理选择膜层厚度，同时，由于Low-E玻璃的底膜、顶膜性能不一样，故厚度需适当调节。

　　④膜层均匀性的控制

　　在镀膜过程中，极易出现膜层不均匀而影响产品质量的问题，主要是粉末液滴相对于物料蒸气的颗粒要大得多，而且物料的性质决定了其镀膜结构，而气体就可以采取多层料，多层排废的办法，使多层镀膜成功解决了膜层均匀性问题。

　　⑤气幕的设计

　　Low-E玻璃的膜层是氧化物形成的薄膜，在镀膜中要引人氧气参加反应，对于锡槽中介人氧气是极其有害的，一旦氧气泄漏到锡槽中将产生不可估计的损失，为避免这种情况，应在镀膜器上设计专用的气幕，从而避免氧气的泄漏。