以前人们认为玻璃的抛光与研磨都是磨料对玻璃的机械作用，只是抛光的磨粒更细。英国学者雷莱用显微镜观察到抛光开始， 研磨表面凹陷项部就出现了抛光得极好的不大的区域，随着抛光而继续扩大。所以他认为不应该将抛光看作只是从表面剥落玻璃碎屑，而是在抛光物质的作用下，发生分子过程。另一位英国学者培比认为玻璃由于干摩擦产生的热面培化成-黏滞液在表面流动，并在表面张力的作用下，使玻璃表面光滑。此流动层称为“培比层”，约为0.025~0. lμm厚。玻璃抛光时，除将研磨后表面的凹陷层(3~4m)全部抛除外，还需要将凹陷层下面的裂纹层(0-~15m)也抛光除去。这个厚度虽比研磨时期除的原庞小将多(仅为研磨时磨去的厚度的140-1/20但是指光过程所第时间却比研重过程要多(为新廉时间的2倍或更多)，即抛光效丰比研磨放奉低得多。